可見光衰減片的方法有很多種，包括電鍍、化學鍍，真空蒸發鍍以及磁控 濺射鍍膜法。

工業化生產中人們既關心產品的綜合性能又要考慮制備成本，在 以上制備方法中化學鍍膜工藝流程簡單，成本低廉，且操作簡便，因此受到人 們的重視，但該方法會產生廢液，污染環境；磁控濺射鍍膜工藝技術先進， 制備的薄膜具有質量保證，是目前廣泛應用的一種制備手段，相比于其他方 法，磁控濺射鍍膜具有成膜速率高，基片溫度低，膜粘附性好等鍍膜優點，而 且對環境無污染，適合低碳要求，是一種綠色制造技術，是最有發展前景的表 面涂覆技術之一 。

從市場需求的角度看，滿足光衰減器小型集成化、系列 化的發展，但其使用設備儀器復雜，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相 對較高 。

基于產品性價比的考慮，有必要對化學鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進行綜合分析和對比，進而研究工藝參數對 Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結構、三維結構、粗糙度以及對光衰減率的影響，通過調節工藝 參數來獲得具有不同光衰減率的光衰減片，從而滿足人們對不同膜系功能的需 求。